新華社北京2月25日電（記者 魏夢佳）清華大學(xué)工程物理系教授唐傳祥研究組與德國的研究團隊25日在《自然》雜志上發(fā)表論文，報告了一種名為“穩(wěn)態(tài)微聚束”（SSMB）的新型粒子加速器光源的原理驗證實驗。據(jù)悉，這項重要研究有望為光子科學(xué)研究提供新的機遇，并助力EUV（極紫外）光刻機的自主研發(fā)。

據(jù)了解，在實驗中，研究團隊利用波長1064納米的激光操控環(huán)形加速器內(nèi)的電子束，使電子束繞加速器一整圈（周長48米）后形成精細的微結(jié)構(gòu)，即“微聚束”。研究人員發(fā)現(xiàn)，微聚束會在激光波長及其高次諧波上輻射出高強度的窄帶寬相干光，通過探測該輻射可驗證微聚束的形成，由此證明了電子的光學(xué)相位能以短于激光波長的精度逐圈關(guān)聯(lián)起來，使得微聚束可被“穩(wěn)態(tài)”地保持，從而驗證了SSMB的工作機理。

“SSMB光源的潛在應(yīng)用之一是作為未來EUV光刻機的光源?！碧苽飨榻淌诒硎?。光刻是集成電路芯片制造中復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟，光刻機是芯片產(chǎn)業(yè)鏈中必不可少的精密設(shè)備。目前業(yè)界公認的新一代主流光刻技術(shù)是采用波長為13.5納米光源的EUV光刻。而大功率的EUV光源是EUV光刻機的核心基礎(chǔ)。

“光刻機需要的EUV光，要求是波長短、功率大?！碧苽飨檎f，大功率EUV光源的突破對于EUV光刻進一步的應(yīng)用和發(fā)展至關(guān)重要，“基于SSMB的EUV光源有望實現(xiàn)大的平均功率，并具備向更短波長擴展的潛力，為大功率EUV光源的突破提供全新的解決思路?！?/p>

對于此項研究，《自然》的相關(guān)評論文章中指出，“該實驗展示了如何結(jié)合現(xiàn)有兩類主要加速器光源——同步輻射光源及自由電子激光的特性，SSMB光源未來有望應(yīng)用于EUV光刻和角分辨光電子能譜學(xué)等領(lǐng)域?！?/p>